Eine Chemieplattform für Präzisionsoptik

Vier PFAS-freie Chemiefamilien, die den breitesten Brechungsindex-Bereich eines einzelnen Anbieters weltweit abdecken. Von RI 1,16 bis 2,00 wird jedes Produkt in unserer Anlage in Nuth, Niederlande, hergestellt.

1.16–2.00Brechungsindex-Bereich
30%F&E-Anteil am Umsatz
500k kgAS-Hartbeschichtung über 4 Jahre geliefert

Eine Plattform, keine Produktlinie

Die meisten Beschichtungslieferanten bieten einen engen RI-Bereich innerhalb einer einzigen Chemie. Kriya deckt RI 1,16 bis 2,00 über vier Chemiefamilien ab — mit PFAS-freien Alternativen über den gesamten Bereich.

Das vollständige Brechungsindex-Spektrum

1.161.401.551.701.852.00
Solvent sol-gel (1.16–2.00)
100% solids UV-curable (1.34–1.65)
Solvent UV-curable hybrids (1.30–1.95)
Thermal-curable latex (1.36–1.50)

Nanopartikelwissenschaft

Jede Beschichtung der Kriya-Plattform bezieht ihren Brechungsindex aus synthetisierten Nanopartikeln, die in einer Polymermatrix dispergiert sind.

Hollow SiO₂

SiO₂ (hollow)
RI
1.16–1.48
Größe
30–80 nm range
Synthese
Hauptvorteil
Used to make coatings in range of RI 1.16–1.48

Titania

TiO₂
RI
1.60–2.00
Größe
Typically below 50 nm
Synthese
Hauptvorteil
Widest HRI range for visible-transparent coatings; NIL-compatible

Antimony tin oxide

Sb:SnO₂ (ATO)
RI
N/A (functional particle)
Größe
8–20 nm
Synthese
Hauptvorteil
NIR absorption; anti-static; 5G/RF-transparent

Tin oxide

SnO₂
RI
1.50–1.67 in coatings
Größe
Typically below 50 nm
Synthese
Sol-gel / hydrothermal
Hauptvorteil
Electrical conductivity combined with optical transparency; medium RI tuneable

Magnetite

Fe₃O₄
RI
N/A (non-optical)
Größe
>100 nm
Synthese
Hauptvorteil
Non-optical, ferromagnetic, >100 nm

Optische Eigenschaften

RI-Engineering durch Partikelbeladung

Durch Auswahl der Partikelchemie (TiO₂ bei n=2,4 vs SiO₂ bei n=1,46) und Steuerung des Volumenanteils von 5% bis 55% ist der gesamte RI-Bereich 1,16–2,00 zugänglich.

Optische Dispersion

Der Brechungsindex ist über das sichtbare Spektrum nicht konstant. Alle dielektrischen Materialien zeigen normale Dispersion (RI nimmt mit zunehmender Wellenlänge ab). Dies wird durch die Cauchy-Gleichung modelliert:

n(λ) = A + B/λ² + C/λ⁴

λ in μm. Example: BK7 glass A=1.5046, B=0.00420

Dispersion ist für das Antireflexbeschichtungsdesign wichtig: Ein bei 550 nm optimierter Viertelwellenlängen-Stack hat unterschiedliche Reflexion bei 400 nm und 700 nm.

Multifunktionalität in einer Schicht

Durch Kombination verschiedener Partikeltypen in einem Bindersystem kann eine Beschichtungsschicht mehrere Funktionen gleichzeitig liefern: optisch (RI-Kontrolle), mechanisch (Härte), Anti-Fouling (Oberflächenenergie) und elektrostatische Ableitung (leitfähige Oxidpartikel).

Mechanische Eigenschaften

Bleistifthärte nach Chemie

ChemieBleistifthärteFaltzyklenHaftung
Siloxane hybrid HC2H–7H*200,000100%
Sol-gel (thermal cure)5H–9HLimited100%
UV-curable 100% solids2H–7H100,000+100%
Thermal latexHB–2H500,000+100%

* Substrate and coating thickness dependent

Faltbeständigkeits-Mechanismus

Faltbare Display-Beschichtungen erfordern ein Paradoxon: Die Beschichtung muss hart genug sein, um Kratzer zu widerstehen (Bleistifthärte 3H+), aber flexibel genug, um 200.000+ Faltzyklen bei 1 mm Radius zu überstehen.

  • Anorganisches Rückgrat (Si–O–Si-Netzwerk) liefert Härte und Kratzfestigkeit
  • Organische Brücken (flexible Alkylensegmente) bieten Kettenbeweglichkeit beim Biegen
  • Nanopartikel-Verstärkung (nanoskalige Partikel verteilen Spannung gleichmäßig)

Haftungstechnik

Die Haftung auf Polymersubstraten (PET, PC, PMMA, TAC, CPI) wird durch chemische Bindung an der Grenzfläche erreicht. Alle Kriya-Beschichtungen bestehen die 100% Gitterschnitt-Haftprüfung nach ISO 2409 auf Zielsubstraten.

Physikalische Eigenschaften

Hydrophobie ohne PFAS

Traditionelle Anti-Fingerprint-Beschichtungen setzen auf perfluorierte Verbindungen (PFAS) für niedrige Oberflächenenergie. Kriya erreicht Wasserkontaktwinkel >100° durch einen alternativen Mechanismus.

Elektrostatische Ableitung

Leitfähige Oxid-Nanopartikel bilden Perkolationsnetzwerke innerhalb der Beschichtungsmatrix und ermöglichen kontrollierte Oberflächenwiderstände.

NIR-Blockierung (Solarwärmekontrolle)

ATO-Nanopartikel absorbieren Nahinfrarotstrahlung (780–2500 nm) durch d-d-elektronische Übergänge. Innentemperaturreduktion: 9 °C. Klimaanlagen-Einsparung: 35%.

UV-Schutz

TiO₂-Nanopartikel bieten UV-Absorption über ihre Halbleiter-Bandlücke. Beschichtungen blockieren >99% UV-B und >95% UV-A.

Fertigungsprozess

Von molekularen Vorstufen bis zu qualifizierten Beschichtungschargen: ein kontrollierter Prozess in jeder Phase.

Vereinfachter Prozessablauf

Vorläufer-lösungNanopartikel-bildungDispersions-stabilisierungFormulierung& QKBeschichtungs-applikation

Vier Chemiefamilien

Lösemittel-Sol-Gel

1.16–2.00

Breitester RI-Bereich. Optionale niedrig ausgasende Varianten für vakuumnahe Prozesse.

Härtungstyp
Thermisch (200–700 °C)
Verarbeitung
Spin, dip, roll, spray
Hauptanwendungen
Display-AR-Stacks, Automobil-Optik, Metalinsen, Photonik

100% Feststoff UV-härtbar

1.34–1.65

Lösemittelfrei — eliminiert Verdunstungsartefakte. Entscheidend für NIL-Strukturtreue.

Härtungstyp
UV-Härtung (lösemittelfrei)
Verarbeitung
R2R, NIL, screen printing
Hauptanwendungen
Wellenleiter-Gitter, Metalinsenstrukturen, optische Folien

Lösemittel-UV-härtbare Hybride

1.30–1.95

Das Arbeitspferd für Mehrschicht-Optik-Stacks. LRI bis 1,30 ermöglicht Breitband-AR unter 0,15% Reflexion.

Härtungstyp
UV-Härtung (lösemittelbasiert)
Verarbeitung
Gravure, slot die, dip, float, spin
Hauptanwendungen
Mehrschicht-AR, Polarisator-ULR, Display-Hartbeschichtungen

Thermisch härtbarer Latex

1.36–1.50

Wasserbasiert. Vereinfacht die Umweltkonformität. Beschichtet wärmeempfindliche Substrate.

Härtungstyp
Thermisch (Niedrigtemperatur)
Verarbeitung
Nearly any known application method
Hauptanwendungen
Flexible Substrate, Allzweck-Funktionsbeschichtungen

PFAS-frei im gesamten Bereich

Seit der ECHA-Vorschlag einer universellen PFAS-Beschränkung steht die Beschichtungsindustrie vor einer strukturellen Herausforderung: Niedrigbrechungsindex-Beschichtungen waren historisch von fluorierten Polymeren abhängig.

Zwanzig Jahre Materialinnovation

2004

Nanopartikeltechnologie aus der Philips-Forschung ausgegründet

2006

Kriya Materials auf Chemelot in Geleen gegründet — von Nanopartikeln zu Plug-and-Play-Beschichtungen

2008

Erster OEM-Kunde — ein großer koreanischer Display-Hersteller

2009

500.000 kg antistatische Hartbeschichtung (4 Jahre) für einen großen koreanischen Display-OEM

2010

Einziger globaler Lieferant antistatischer Farbfilter-Beschichtung für PDP

2013

Markteinführung HRI/LRI-Nanopartikel zur OLED-Verbesserung

2017

Shift Invest und Chemelot Ventures investieren

2018

Strategische Investition von Henkel

2019

Seriengefertigte multifunktionale AR-Beschichtungen

2022

Holland Capital als Lead-Investor. Umzug in erweiterte Anlage in Nuth

2025

100% PFAS-freie LRI bis RI 1,16 eingeführt; 100% Feststoff LRI (RI 1,37–1,41)

2026

XR, Metalinsen und Photonik-Systeme; 100% Feststoff-Roadmap bis <1,37 und >1,60 RI

Technologieentwicklung: von Einzelfunktion zu integrierten Systemen

Zwei Jahrzehnte Materialentwicklung folgen einem klaren evolutionären Bogen — jede Phase baut auf der vorherigen auf.

Phase 12006–2014

Einzelfunktions-Beschichtungen

Einzelne Beschichtungen mit einer optischen oder mechanischen Funktion.

Phase 22014–2020

Multifunktionale Beschichtungen

Mehrere Funktionen in einzelnen Schichten kombiniert.

Phase 32020–present

Integrierte Materialsysteme

Vollständige optische Architekturen von einer einzigen Plattform.

Validierte Leistung auf Glassubstraten

Über Polymerfolien hinaus zeigen Kriya-Beschichtungen auf Glassubstraten bei anspruchsvollen Härtungstemperaturen überzeugende Leistungswerte.

Thermischer HRI auf Display-Glas

Brechungsindex1.85
Bleistifthärte8H
Trübung (optimiert, 200 °C Härtung)0.49%
Haftung (ASTM D3359)100%
Härtungstemperaturbereich130–200 °C

LRI auf Glas für Lichtleitung

Transmission (unbeschichtet)89.9%
Transmission (beschichtet)93.8%
Absoluter Gewinn+3.9%
Vorspannbeständigkeit630 °C (250 s + rapid cool)
Lichtleitungsgewinn2.5–4.5x luminance improvement

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