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KM-205100% PFAS-프리
100% Solids LRI NIL Resin
Solvent-free 100% solids low-refractive-index UV resin formulated for nanoimprint lithography (NIL) of waveguide cladding and metalens spacer layers. Reproduces sub-100 nm features at R2R scale with low cure shrinkage. PFAS-free; compatible with glass, polymer film, and Si wafer substrates.
사양
기능
Low RIAnti-reflective
호환 기재
GlassPETSi wafer
가공 방법
NILR2RSLOT DIESPIN
굴절률 범위
1.35–1.45
1.162.00
| 속성 | 값 |
|---|---|
| 제품 코드 | KM-205 |
| 화학 계열 | 100% solids UV-curable |
| 굴절률 범위 | 1.35–1.45 |
| 경화 유형 | UV |
| PFAS 상태 | 100% PFAS-프리 |
| 기능 | Low RI, Anti-reflective |
| 호환 기재 | Glass, PET, Si wafer |
| 가공 | NIL, R2R, SLOT DIE, SPIN |
| 제품 블록 | KM-205 |
| 배치 크기 | 40 kg 샘플부터 양산 규모까지 |
| 유통 기한 | 6개월 (미개봉) |
| 품질 | ISO 9001:2015 인증. 0.8 µm 필터링. 배치당 최대 10개 CTQ 파라미터. |
샘플 요청
40 kg 샘플 배치부터 제공 가능. 모든 배치 0.8 μm 필터링, 최대 10개 CTQ 파라미터 테스트.