全製品
KM-205100% PFASフリー
100% Solids LRI NIL Resin
Solvent-free 100% solids low-refractive-index UV resin formulated for nanoimprint lithography (NIL) of waveguide cladding and metalens spacer layers. Reproduces sub-100 nm features at R2R scale with low cure shrinkage. PFAS-free; compatible with glass, polymer film, and Si wafer substrates.
仕様
機能
Low RIAnti-reflective
対応基材
GlassPETSi wafer
加工方法
NILR2RSLOT DIESPIN
屈折率範囲
1.35–1.45
1.162.00
| プロパティ | 値 |
|---|---|
| 製品コード | KM-205 |
| 化学ファミリー | 100% solids UV-curable |
| 屈折率範囲 | 1.35–1.45 |
| 硬化タイプ | UV |
| PFASステータス | 100% PFASフリー |
| 機能 | Low RI, Anti-reflective |
| 対応基材 | Glass, PET, Si wafer |
| 加工方法 | NIL, R2R, SLOT DIE, SPIN |
| 製品ブロック | KM-205 |
| バッチサイズ | 40 kgサンプルから量産規模まで |
| 保存期間 | 6ヶ月（未開封） |
| 品質 | ISO 9001:2015認証取得。0.8 µmろ過。バッチごとに最大10のCTQパラメータ。 |
サンプル請求
40 kgサンプルバッチから利用可能。