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KM-205100 % sans PFAS

100% Solids LRI NIL Resin

Solvent-free 100% solids low-refractive-index UV resin formulated for nanoimprint lithography (NIL) of waveguide cladding and metalens spacer layers. Reproduces sub-100 nm features at R2R scale with low cure shrinkage. PFAS-free; compatible with glass, polymer film, and Si wafer substrates.

Plage d’indice de réfractionn = 1.35–1.45
1.162.00
Famille chimique100% solids UV-curable
Type de durcissementUV
Bloc de produitsKM-205
Demander un échantillonExplorer la plage RI

Spécifications

Fonctions

Low RIAnti-reflective

Substrats compatibles

GlassPETSi wafer

Méthodes de traitement

NILR2RSLOT DIESPIN

Plage d’indice de réfraction

1.35–1.45
1.162.00
PropriétéValeur
Code produitKM-205
Famille chimique100% solids UV-curable
Plage d’indice de réfraction1.35–1.45
Type de durcissementUV
Statut PFAS100 % sans PFAS
FonctionsLow RI, Anti-reflective
Substrats compatiblesGlass, PET, Si wafer
TraitementNIL, R2R, SLOT DIE, SPIN
Bloc de produitsKM-205
Tailles de lotsDe 40 kg échantillon à l’échelle de production
Durée de conservation6 mois (non ouvert)
QualitéCertifié ISO 9001:2015. Filtré à 0,8 µm. Jusqu’à 10 paramètres CTQ par lot.

Applications associées

AR/VR & WaveguidesVoir l’application →Photonics & MetalensesVoir l’application →

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Disponible à partir de lots de 40 kg. Chaque lot filtré à 0,8 μm et testé sur jusqu’à 10 paramètres CTQ.

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