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KM-205100 % libre de PFAS

100% Solids LRI NIL Resin

Solvent-free 100% solids low-refractive-index UV resin formulated for nanoimprint lithography (NIL) of waveguide cladding and metalens spacer layers. Reproduces sub-100 nm features at R2R scale with low cure shrinkage. PFAS-free; compatible with glass, polymer film, and Si wafer substrates.

Rango de índice de refracciónn = 1.35–1.45
1.162.00
Familia química100% solids UV-curable
Tipo de curadoUV
Bloque de productoKM-205
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Especificaciones

Funciones

Low RIAnti-reflective

Sustratos compatibles

GlassPETSi wafer

Métodos de procesamiento

NILR2RSLOT DIESPIN

Rango de índice de refracción

1.35–1.45
1.162.00
PropiedadValor
Código de productoKM-205
Familia química100% solids UV-curable
Rango de índice de refracción1.35–1.45
Tipo de curadoUV
Estado PFAS100 % libre de PFAS
FuncionesLow RI, Anti-reflective
Sustratos compatiblesGlass, PET, Si wafer
ProcesamientoNIL, R2R, SLOT DIE, SPIN
Bloque de productoKM-205
Tamaños de loteDesde lote de muestra de 40 kg hasta escala de producción
Vida útil6 meses (sin abrir)
CalidadCertificado ISO 9001:2015. Filtrado a 0,8 µm. Hasta 10 parámetros CTQ por lote.

Aplicaciones relacionadas

AR/VR & WaveguidesVer aplicación →Photonics & MetalensesVer aplicación →

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Disponible desde lotes de muestra de 40 kg. Cada lote filtrado a 0,8 μm y probado en hasta 10 parámetros CTQ.

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