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KM-205100% PFAS-frei

100% Solids LRI NIL Resin

Solvent-free 100% solids low-refractive-index UV resin formulated for nanoimprint lithography (NIL) of waveguide cladding and metalens spacer layers. Reproduces sub-100 nm features at R2R scale with low cure shrinkage. PFAS-free; compatible with glass, polymer film, and Si wafer substrates.

Brechungsindex-Bereichn = 1.35–1.45
1.162.00
Chemiefamilie100% solids UV-curable
HärtungstypUV
ProduktblockKM-205
Muster anfordernRI-Bereich erkunden

Spezifikationen

Funktionen

Low RIAnti-reflective

Kompatible Substrate

GlassPETSi wafer

Verarbeitungsmethoden

NILR2RSLOT DIESPIN

Brechungsindex-Bereich

1.35–1.45
1.162.00
EigenschaftWert
ProduktcodeKM-205
Chemiefamilie100% solids UV-curable
Brechungsindex-Bereich1.35–1.45
HärtungstypUV
PFAS-Status100% PFAS-frei
FunktionenLow RI, Anti-reflective
Kompatible SubstrateGlass, PET, Si wafer
VerarbeitungNIL, R2R, SLOT DIE, SPIN
ProduktblockKM-205
ChargengrößenAb 40 kg Muster bis Produktionsmaßstab
Haltbarkeit6 Monate (ungeöffnet)
QualitätISO 9001:2015-zertifiziert. Auf 0,8 µm gefiltert. Bis zu 10 CTQ-Parameter pro Charge.

Verwandte Anwendungen

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Verfügbar ab 40 kg Musterchargen. Jede Charge auf 0,8 μm gefiltert und auf bis zu 10 CTQ-Parameter getestet.

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