為何看折射率
壓印光學中,折射率就是設計變數
压印透镜、光栅或柱状结构的性能受限于其折射率对比。更高的树脂折射率缩短焦距、拓宽波导视场、让衍射结构在更小高度内完成更多工作。相邻的低折射率层以包覆层、缝隙填充或减反的形式把对比度还回来。多数压印线认证一款树脂,就与其折射率共存。Kriya的做法相反:请告诉我们工艺所需的折射率、粘度与固化条件,我们据此配方。
為壓印線配方的材料
| 在您叠层中的功能 | 化学体系 | 折射率 | 压印或涂敷 | 固化 |
|---|---|---|---|---|
| 压印树脂,低到中折射率 | 100% 固含量 UV, 无溶剂 | 1.34 – 1.65 | 压印 | UV |
| 压印树脂,高折射率 | 溶剂型 UV 抗蚀剂 | 633 nm 处 1.79(已发表) | 压印 | UV |
| 高折射率树脂与涂层 | 溶剂型 UV,同一系列 | 最高 1.95 | 涂敷层;可用于压印评估 | UV |
| 低折射率包覆与缝隙填充 | UV 混合 | 1.30 – 1.40 | 涂敷层 | UV |
| 超低折射率层 | 含空心二氧化硅溶胶-凝胶 | 80°C 固化时 1.21;高温固化时 1.16 | 涂敷层 | 热固化 |
| 减反顶涂 | 多层 | R < 0.15 % | 涂敷层 | UV 或热 |
无溶剂(100% 固含量)树脂目前达n 1.65;更高折射率正在开发中。n 1.79以上,溶剂型等级作为涂层或您线上的压印评估材料供应。
貼合您的製程
我们不要求您改线。请告诉我们工艺窗口,我们在其内配方。
我们会询问
- 格式:晶圆(200 或 300 mm)、板对板、roll-to-plate 或 roll-to-roll
- 施涂方式:旋涂、狭缝涂、凹版、丝网印刷或点胶
- 目标粘度及层/残膜厚度
- 模具或工作模具材质
- 固化:灯源或 LED 波长、剂量、惰性或大气
- 基底及其温度上限
- 目标折射率与波长、透过率与雾度上限
- 下游工艺耐受:焊接回流、湿热、热循环、再涂
压印试验在您的线或设备供应商演示实验室进行。我们在轮次之间调整配方。
已發表結果
壓印驗證:薄膜太陽電池上的高折射率壓印抗蝕劑
在同行评审研究中,Kriya 的一款高折射率抗蚀剂(633 nm 处 n 1.79)通过采用 PDMS 复制体的逐片 UV NIL 方式,被以蛾眼纹理 UV 纳米压印到 CIGS 太阳能电池上。其折射率接近透明前电极(AZO, 633 nm 处 n 1.91),界面处光损失被压制。三种吸收层厚度下,电池平均短路电流 +7.2 %,效率 +6.0 %,反射 -7.0 %。
Burghoorn 等, AIP Advances 4, 127154 (2014), doi:10.1063/1.4905456。开放获取。
同样的配方知识正用于波导光栅、晶圆级透镜与超透镜的树脂。
壓印光學與我們材料的交會
晶圆级透镜与衍射光学元件
按您透镜设计所假设折射率的压印树脂,以及同叠层的低折射率与减反层。
AR/VR 波导光栅
拓宽视场的高折射率树脂与涂层,维持光导的低折射率层。
超透镜与平面光学
上下带有高折射率涂层的压印结构。
光子封装与共封装光学
聚合物波导与光学接口用的低折射率包覆与指数匹配层。
图像传感器与 microLED
用于光取出、光收集、指数匹配的折射率设计层。
光伏光管理
降低前表面反射的纹理化高折射率层。
在索樣前先算一下
我们的计算器基于已发表的物理。先看演示模式,再申请接入以使用您的数值。
- 演示
/tools/nil-fidelityNIL 图案保真度估算 - 演示
/tools/metalens超透镜相位分布设计 - 演示
/tools/waveguide-fovAR 波导 TIR / FOV 计算 - 演示
/tools/rgb-waveguideRGB 波导堆叠设计 - 演示
/tools/effective-medium有效介质折射率 - 演示
/tools/lri-particle低折射率中空颗粒 - 演示
/tools/tmmTMM 薄膜反射模拟 - 演示
/tools/cure-shrinkage固化收缩与残余应力 - 演示
/tools/stoney-stressStoney 薄膜应力 - 演示
/tools/cte-mismatchCTE 失配与翘曲 - 演示
/tools/wet-thickness湿膜转干膜厚度 - 演示
/tools/pi-lamp-matchUV 灯 / 树脂吸收匹配
專案流程
- 01
登记
填写我们的项目登记表:折射率、工艺、基底、用量。
- 02
评估
我们核查基底与工艺窗口,告知可行性。
- 03
配方与打样
按工艺窗口配方,寄出线上使用的样品。
- 04
报价
样品验证后,按产品代码出具报价。
常見問題
哪些折射率可被压印?
无溶剂 UV 树脂覆盖 n 1.34–1.65,Kriya 的溶剂型高折射率抗蚀剂(n 1.79)已在同行评审论文中实现纳米压印。同系列可提供至 n 1.95 作为涂层与压印评估,低折射率层至 n 1.16 完成堆叠。
材料是否 PFAS-free?
是。本页所有材料包括低折射率等级均可提供 PFAS-free 版本。
是否有可订购的标准等级?
没有。每种材料都按您的基底与工艺配方,拥有专属产品代码。这样才能同时命中粘度、固化与折射率。
能否替我们做压印试验?
我们配方并供货。试验在您的线或装备供应商演示实验室进行,我们在轮次之间调整配方。
是否提供光刻胶或其他前道半导体化学品?
不提供。我们做光学层:压印树脂、指数匹配层、包覆层与减反涂层。
材料在哪里制造?
在荷兰,依 ISO 9001:2015。所有产品符合 REACH。
正在開發壓印光學元件?
发送您的目标折射率与工艺窗口。我们将告诉您能配方到什么。