光学コーティング用語集

C–F結合を含まずに設計された低表面エネルギーで、シラン化学、メチル化シロキサン、または階層型マイクロ/ナノ構造により実現。マスマーケット向けAFコーティングのPFASフリーへの道。

油の濡れと付着に対する抵抗性。通常ヘキサデカンを用いた油接触角(OCA)として測定。OCA > 60°が指紋耐性表面の実用閾値。

C–F結合を含む合成フッ素化学物質のクラス。低表面エネルギーのため疎水/疎油コーティングに歴史的に用いられてきました。環境残留性と健康リスクから世界的に規制されています(EU REACH、米国EPA、日本、韓国)。

パーフルオロアルキルおよびポリフルオロアルキル物質を含まない配合。規制上の必須要件になりつつあります(EU包括的PFAS制限提案、米国州法)。KriyaのRIプラットフォーム1.16〜2.00全体はPFASフリーです。

与えられた体積の液滴が傾斜面上を滑り始める角度。スリップ角が低いほど自己洗浄性が高いことを示します。接触角ヒステリシスと密接に関連。

単位面積の新しい表面を生成するのに必要な熱力学的エネルギーで、mJ/m²で測定。低表面エネルギー(≈10〜20 mJ/m²)で疎水性・疎油性を実現。PFAS表面は~10 mJ/m²、PFASフリーハイブリッドシランは15〜20 mJ/m²。

水滴が表面となす角度をゴニオメトリーで測定。WCA > 90°で疎水性、>150°で超疎水性。WCAが高いほど指紋防止性能が向上し、清掃が容易になります。

鏡面光沢の単位で、屈折率1.567の研磨黒ガラスが60°で正確に100 GUとなるよう定義されています。アンチグレアコーティングはヘイズ目標により通常30〜95 GUを実現します。

反射または透過光の角度分布を測定する装置。BRDF、BTDFやAGコーティングの角度シグネチャを単純なスカラー光沢以上に特徴付けるのに用います。

積分球で前方散乱光を収集することで透明試料の全透過率、ヘイズ、クラリティを測定する装置。BYK Haze-Gardが業界標準モデル。

小さなプロファイル長で測定される算術平均表面粗さで、通常nmからμmのスケール。AGコーティングは鏡面反射を散乱させるため、50〜500 nm範囲の制御されたRaを使用します。

20°/60°/85°光沢、Distinctness of Image (DOI)、反射ヘイズを1回の測定で取得する多機能外観計測器。光沢とDOI両方が問われる表面の標準。

AG表面がピクセル化されたディスプレイ上に配置されたときに見えるピクセルレベルのシンチレーション。AGマイクロ構造が個々のサブピクセルからの光を変調することで発生します。AGヘイズ調整の重要なトレードオフ。

p偏光が非吸収性誘電体界面から反射ゼロで完全透過する入射角。偏光弁別AR設計の基礎です。吸収性媒質では擬似ブリュースター極小値に置き換えられます。

広い波長範囲(例:可視400〜700 nm、NIR 905〜1550 nm)で反射を抑制する多層AR設計。通常3〜5層を数値最適化します。

マクスウェル方程式から導出される平面誘電体界面での反射。偏光依存:s偏光(垂直)とp偏光(平行)で反射率が異なります。フレネル方程式はARコーティング設計の基礎です。

界面で屈折率が急激ではなく段階的に変化するよう層材料を選ぶ手法で、フレネル反射を抑制します。OLED光取り出し層や導波路クラッドに不可欠。

高屈折率層と低屈折率層を交互に配置した2層以上の光学薄膜アセンブリ。広帯域反射、透過、フィルタ応答を設計するために用いられ、転送行列法(TMM)で計算します。

屈折率と角度を組み合わせた複素量で、TMMで反射と透過を計算する際に使用。反射率 R = |(Y₀ − Y)/(Y₀ + Y)|²、Y₀は入射媒質のアドミタンス。

光学厚が設計波長の1/4に等しい薄膜層。屈折率√(n_空気 × n_基板)の単一QWLは設計波長でゼロ反射を実現します — 最も単純な単層AR。

s偏光は電場が入射面に垂直(ドイツ語"senkrecht")、p偏光は電場が入射面内(平行)。両者の反射率は大きく異なり、特にブリュースター角近傍で顕著です。

任意の多層薄膜スタックの複素振幅反射率および透過率を計算する数値手法。各層は2×2行列で表現され、スタック行列はその積となります。ARコーティング設計の標準ツール。

狭い波長帯に最適化された2〜3層ARスタックで、V字型の反射曲線にちなんで命名されます。レーザー光学やLiDARセンサ窓で一般的です。

ユーザーの瞳孔を配置でき、仮想画像全体が見える3D領域。射出瞳拡張格子で制限されます。大きなアイボックスは多様な瞳孔間距離や頭位置に対応します。

光学機器を通して使用者が見られる世界の角度範囲。AR/VRのFOVは導波路のTIR包絡と格子帯域幅で制限されます。FOVの拡大には通常より高屈折率基板が必要です。

フォトポリマーまたは重クロム酸塩ゼラチンフィルム内に屈折率変調として記録された体積ブラッグ格子。SRGと異なり表面起伏なし。角度・波長選択性が調整可能。一部のAR/VR製品やHUDコンバイナで使用。

ディスプレイ光をTIR伝搬に入れ、ユーザーの目に向けて出すための導波路の入口と出口の回折素子。効率、均一性、角度帯域幅が重要な設計パラメータ。

光波の方向と空間周波数を表す波数ベクトル。導波路や格子解析で、結合、分散、TIR条件をk空間で記述するために使用されます。

連続する格子反射を用いてプロジェクタの小さなネイティブ瞳から有用なアイボックスまで射出瞳を拡大する導波路設計技術。1Dおよび2D瞳拡張器が現代のARグラスの標準。

光を回折する周期的なマイクロ/ナノ構造表面。AR/VR導波路ではSRGが入出力カプラと瞳拡張器として機能。ピッチは通常200〜500 nm、Kriya HRI基板上にNILで作製。

より高密度な媒質内の光が、より低密度な媒質との界面に臨界角を超えて入射すると、全光が反射されます。導波路の光閉じ込めや光ファイバーの基礎。

カメラ、レーダー、LiDARベースの安全機能群(車線維持、緊急ブレーキ、アダプティブクルーズ)。カメラやLiDARセンサ窓は動作波長で高透過のARコーティングが必要。

自動車カメラ(前向き、サラウンドビュー、ドライバーモニタリング)上の保護透明カバー。低ゴーストのための広帯域AR、飛び石耐性のためのハードコート、自己洗浄性のためのAF化学が必要。

ウィンドシールドの第二面での反射により発生する主HUD画像のかすかな複製。ウェッジ角度PVBインサートと内側ガラス表面の厳密に制御された多層ARで抑制されます。

情報(速度、ナビゲーション、ADAS警告)をウィンドシールド経由で運転者の視線上に投影する自動車光学システム。ガラス-空気およびガラス-PVB界面での多層ARと選択的反射が二重像抑制に不可欠。

通常905、940、1550 nmのパルスレーザー光を用いるTime-of-Flight 3Dマッピングセンサ。センサ窓は透過最大化と検出器への反射最小化のため狭帯域AR(V-coat)を必要とします。

コーティングまたは基板を通過する700〜2500 nm光の割合。LiDAR(905/940/1550 nm)、ドライバーモニタリングカメラ(940 nm)、暗視システムに重要。多くの自動車ソーラーコントロールコーティングはNIRを遮蔽するが、センサ固有の帯域で透過する必要があります。

LCDプロジェクター出力の偏光特性と偏光サングラスの偏光効果を考慮したHUD設計。補償なしでは偏光メガネ装着のドライバーがHUD画像を失う — 1/4波長板やs偏光投影で解決。

前駆体パルスを交互に与えることで原子層を一層ずつ堆積する自己制限的なCVD派生法。サブナノメートルの膜厚制御とコンフォーマル被覆。超薄AR層、ゲート絶縁膜、ピンホールフリーバリアに使用。

基板を溶液に浸漬し、制御された速度で引き上げて均一な膜を残す湿式化学法。膜厚は粘度、密度、引上げ速度に従ってスケール(Landau-Levich)。試作と少量光学部品に経済的。

ソース材料を加熱(抵抗またはe-ビーム)し、蒸気が基板に堆積する真空PVD法。低速・視線方向のみ。試作光学コーティングで一般的。基板加熱がプラスチックでの使用を制限します。

彫刻されたシリンダーが計量された流体ポケットを基板に転写するR2Rコーティング法。厚い(~1〜20 μm)機能層に最適、100 nm未満のAR層には不向き。

プラズマを使用して必要な基板温度を下げる化学気相成長。温度感受性基板上のSiO₂、SiN_x、SiO_xN_y膜で一般的。ALDより高速で厚膜可能だが精度は劣る。

ロール上のフレキシブル基板(PET、TAC)に対する連続湿式化学コーティング。スロットダイ、グラビア、またはスプレー塗布後にインライン硬化(UV、熱、またはデュアル)。高スループット。自動車およびディスプレイフィルムのAR/AG/AFに推奨。

計量された流体を薄いスロットから走行するウェブ上に押し出す精密湿式コーティング法。クロスウェブ均一性±1%以下で薄い(~100 nm〜10 μm)光学コーティングのR2R主要技術。

加水分解と縮合を介して分子前駆体から無機酸化物ネットワークを形成する湿式化学合成ルート。プラスチック基板上で光学コーティング(シリカ、チタニア、ジルコニア)の低温加工を可能にします。Kriyaの中核プラットフォーム。

回転する基板に流体を分注し、遠心力で余剰を飛ばして薄い均一膜を残す湿式化学法。ウェハスケール光学やラボ試作の標準。膜厚は√(粘度/回転速度)に従ってスケール。

霧化された液滴を基板に向ける湿式化学法。浸漬やスピンが非実用的な大型または曲面部品(自動車ベゼル、AR/VR光学筐体)に適しています。膜厚均一性のために細心のノズルおよびオーバースプレー制御が必要。

イオンがターゲットを衝撃し、放出された原子が基板上で凝縮する物理蒸着。精密厚みの緻密な光学膜(TiO₂、SiO₂、Ta₂O₅)を作成します。高額設備投資、真空のみ、カメラ・レーザー光学の標準。

超HDテレビ用のITU-R勧告で、可視CIE 1931領域の約75%の色空間を定義。量子ドットまたはレーザー原色でのみ実現可能。ARカバーレンズは広い色域を歪める波長選択反射を避ける必要があります。

ディスプレイが再現できる色域で、色度図上にプロットされます。広い色域(DCI-P3、BT.2020)は純粋な狭帯域原色を必要とし、カバーレンズ反射の色付きに敏感 — 均一なARが重要。

ピーク白輝度と最深黒輝度の比。カバーレンズのARコーティングは環境光反射(黒輝度に加算される)を低減し、昼光下のCRを劇的に改善します。

デジタルシネマ用に定義された広色域色空間(SMPTE 431-2)で、sRGBより約25%大きい。Appleディスプレイや現代のスマートフォンで採用。ARコーティングの色中立性公差を厳しくします。

バックライトからの偏光を電圧制御の液晶で変調する非自発光ディスプレイ。テレビ、モニター、ほとんどの自動車パネルで主流。カバーガラスにKriyaのAR/AG/AFコーティングがよく適用されます。

微細無機LED(通常GaN)アレイを用いるエミッシブディスプレイ。OLEDより高輝度・長寿命。光学効率にはインデックスマッチング封止とARカバーレンズコーティングが重要。

光学系が空間ディテールをいかに良好に保持するかを示す指標で、空間周波数(サイクル/mmまたはlp/mm)対コントラストで表されます。カバーレンズ散乱(ヘイズ、AG粗さ)はMTFを直接劣化させます。

各ピクセルが自ら発光するエミッシブディスプレイで、バックライト不要、真の黒を実現。EQEを20〜40%向上させるためのインデックスマッチング光取り出し層(Kriya HRI 1.85+)に強い需要があります。

ウェブと多くのコンシューマーディスプレイのデフォルト色空間で、IEC 61966-2-1で定義。DCI-P3やBT.2020より色域が小さい。カバーレンズ反射中立性要件の代表的なレガシー基準。

法線入射の50%以下にディスプレイ輝度が低下する軸外角度(仕様ではCR 10:1または50%)。カバーレンズのAR/AGコーティングは斜入射での反射制御により視野角均一性を保ちます。

元々眼科用レンズ用に開発された振動砂による摩耗試験。Bayer比 = (基準のΔヘイズ) / (試料のΔヘイズ)。高いほど良好。ハードコートのランキングに使用。

コーティングを5×5または6×6格子に切り、テープを貼って剥がす定性的密着試験。残留マス目の%で0〜5評価。ISO 2409クラス0(剥離なし)が業界最低基準。

未摩耗試料に対する摩耗試験後のヘイズ増加(%)。Taber、スチールウール、Bayer摩耗後のコーティング耐久性の標準的なスカラー指標。

一定の荷重と角度で硬度が上がる鉛筆(6B〜9H)を表面上で押し動かすひっかき硬度試験。表面を傷つけない最も硬い鉛筆として報告されます。ハードコートは3H〜4Hを目標とします。

コーティングに接着したドリーを表面に垂直に引き上げる定量的密着試験。MPaで報告。凝集破壊と界面破壊のモードおよび絶対強度を捉えます。

すべり接触下で光学的および美的完全性を維持する表面の能力。鉛筆硬度、Taber、スチールウール、Bayer試験で定量化され、傷密度とΔヘイズで可視化されます。

一定荷重(通常1 kg/cm²)で表面に押し当てた#0000グレードのスチールウールで規定回数のサイクルを行う引っかき試験。表面破壊はΔヘイズまたは目視傷密度で測定。カバーガラスやAG/AF認定で一般的。

指定荷重下で回転する試料円盤と2つの砥粒ホイールを使用する標準化された摩耗試験。一定サイクル数(通常100または500)後のΔヘイズ(%)として報告。実際の清掃サイクル耐久性を定量化します。

周期構造におけるフィーチャ幅とピッチの比。回折効率、帯域幅、角度応答に影響。典型的なSRGデューティサイクルは用途により0.3〜0.7。

太陽光発電では、(Voc × Isc)に対する最大電力点の比率で、セル品質を反映。ナノ構造設計では構造化材料が占める単位セル面積の割合。

焦点距離fの点にコリメートビームを集光するために必要な半径方向の位相関数。メタレンズ設計ではナノピラーの高さや直径を空間的に変化させて局所位相遅延を構築します。

局所的に位相を調整する波長未満ナノピラーの配列からなる平面光学レンズ。超薄型イメージング用の屈折レンズを置き換えます。HRI(n ≥ 1.85)基板またはNIL/e-ビームでパターン化された誘電体ピラーが必要。

マスターモールドが100 nm未満のフィーチャを硬化性樹脂に転写する、ウェハスケールまたはR2Rのパターニング技術。AR/VR導波路やメタレンズ試作のためのe-ビームやDUVリソグラフィに対する費用対効果の高い代替手段。

周期的フィーチャ(格子、ナノピラー)の中心間距離。波長以下のピッチ(~λ/2)で不要な回折次数を回避。AR/VR導波路のピッチは通常200〜500 nm。

ロール装着マスターを使用するフレキシブル基板上の連続ナノインプリントパターニング。ウェハNILより低設備投資でウェハ相当のスループットを実現。コスト効率的なAR/VR導波路製造に不可欠。

標準半導体ウェハサイズ(通常200 mmまたは300 mm)での製造。AR/VR導波路やメタレンズが従来レンズとコスト面で競争するための必要スループットレベル。

可視光を透過しながらNIRで強く吸収する透明導電性酸化物ナノ粒子(SbドープSnO₂)。自動車ソーラーコントロールコーティングの主要熱遮蔽フィラー。インジウム系ITOの代替。

高屈折率セラミック酸化物(可視n ~2.2)で、HRIコーティングのナノ粒子フィラーや保護フィルムのUV吸収剤として使用。太陽暴露下で安定。

UVと熱硬化化学を組み合わせた樹脂。UVがライン速度に対応する即時のグリーンステート硬化を提供し、続く熱処理が陰部や曲面形状内の架橋を完成。自動車曲面ディスプレイコーティングの標準。

無機骨格(Si–O、Ti–O、Zr–Oネットワーク)と架橋用有機側鎖を組み合わせた材料。セラミックの硬度とポリマーの柔軟性を両立、Kriyaのゾルゲルコーティング化学の基盤。

品質マネジメントシステムの国際規格。製造者が設計、生産、継続的改善のための文書化プロセスを維持していることを認証。KriyaはISO 9001:2015認証取得。

韓国の化学物質登録・評価法(2015年、2019年改訂)。年間1トン以上の物質は登録が必要。EU REACH構造を反映し、韓国固有のトン数閾値と認可リストを持ちます。

非臨床的な健康・環境安全試験を組織・実施するためのOECD原則。多くの規制申請(REACH、EPA TSCA)で必要。実験室認定、試験追跡可能性、データ完全性を定義。

化学物質の登録・評価・認可・制限に関するEU規則。年間1トン以上の物質はECHAへの登録が必要。SVHCは附属書XIVの認可対象。PFASフリー移行の推進力。

電気電子機器における有害物質を制限するEU指令。Pb、Hg、Cd、Cr(VI)、PBB、PBDEおよび4種のフタル酸エステルを制限。Kriyaコーティングは設計上RoHS準拠。

サブミクロンの非晶質シリカ粒子(n ~1.46)で、ARコーティングの低屈折率フィラー、ハードコート補強、AGコーティングの制御粗さ生成として使用。

REACHの下でECHAが重大な健康・環境リスクをもたらすと特定した化学物質。Candidate Listに掲載。第33条により製品中0.1%以上含有時は顧客への通知が必要。PFAS物質が継続的に追加されています。

高温(ゾルゲルハイブリッドでは通常80〜150 °C)で重合する樹脂。UVより遅いがより緻密なネットワークを形成し、より厚いコーティングと互換性があります。

商業化学物質を規制する米国連邦法(EPA管轄)。新規物質はPre-Manufacture Notification(PMN)が必要、既存物質はインベントリ化されます。PFAS規制は2024〜2026年の措置で急速に強化されています。

光開始剤化学によりUV照射下で急速に重合する液体樹脂。数秒で硬化、R2RラインやNILパターン固定に最適。溶媒排出なし。

高屈折率セラミック酸化物(n ~2.1)で、特にAR/VR導波路やOLED光取り出し層向けのHRIゾルゲルコーティングのフィラーとして広く使用。優れた機械・熱的安定性。

1.5気圧分の大気質量を通過した後の海面の直達+拡散日射を表す標準太陽参照スペクトル。太陽電池効率認証に使用。全照度約1000 W/m²。

カバーガラスに広帯域ARを追加することで達成される太陽電池出力増加(通常2.5〜4%)。AR透過率向上をAM1.5GスペクトルにわたりセルEQE(λ)で重み付けして積分。

太陽電池では、収集電子を生じる入射光子の波長依存の割合。カバーガラスのARコーティングは表面反射を減らすことで可視域のEQEを直接改善します。

結晶シリコン太陽光発電モジュールの設計適格性および型式認証試験を定義する国際規格。加速暴露、機械的負荷、ホットスポット試験を含みます。ARカバーガラスコーティングはこれらのプロトコルに耐える必要があります。

遠赤外(熱)放射を反射しつつ可視光を透過する薄い金属または酸化物コーティング。ガラス放射率を約0.84(未コート)から<0.10に低減。省エネ窓の標準。

建物や車両内で熱になる入射太陽放射の割合で、直接透過および吸収-再放射部分を含みます。SHGCが低いほど熱遮蔽性能が高くなります。自動車ガラスや建物ファサードに重要です。

ガラスアセンブリの熱貫流率で、単位面積・単位温度差あたりの熱伝導量を表します。U値が低いほど断熱性が良い。Low-eコーティング付き現代ダブルグレージングはU < 1.0 W/m²Kを達成。

光順応視感度で重み付けされた、ガラスを通過する可視光(380〜780 nm)の割合。自動車のフロントガラスは多くの法域でVLT ≥ 70%が要求されます。

光学異方性材料の2つの主軸間の屈折率差。PMMA/PCカバーレンズの延伸誘起複屈折や液晶配向層に重要。

入射方向から±2.5°以内に散乱される光の割合 — ヘイズに対する小角の補完。クラリティが高いほどコーティング越しの像鮮明度が保たれます。

コーティング表面における反射像の明瞭さを示す指標。DOIは0〜100の範囲をとり、高光沢ディスプレイは95+を目標とし、アンチグレア表面では反射像を散乱させるためDOIを意図的に下げます。

60°、20°(高光沢)または85°(マット)で測定される鏡面反射率で、光沢単位(GU)で表されます。100 GUは研磨黒ガラスの基準。ARコーティングは60°で95〜100 GUを目標とし、AGコーティングは意図的に光沢を低減します。

入射方向から2.5°以上散乱した透過光の割合をパーセントで表したもの。AGコーティングは拡散均一性のために制御されたヘイズ(通常1〜25%)を導入し、ARコーティングはヘイズを0.5%未満に保ちます。

表面または界面で反射される入射光パワーの割合で、0〜1または0〜100%で表されます。AR設計は用途帯域と動作角にわたってR(λ)を最小化します。

表面から半球内に散乱される全光を入射電力で規格化したもの。平滑表面ではTIS ∝ (σ/λ)²、σはRMS粗さ — Bennett-Porteus関係。

入射光パワーのうち試料を通過する割合で、0〜1または0〜100%で表されます。波長依存のT(λ)は分光光度計で測定されます。総T = 直線+拡散(ヘイズ)。

光学材料の分散を単一の数値で表す指標。3つのフラウンホーファー波長(d、F、C)における屈折率から計算します。V_d が高いほど分散(色収差)が低いことを示します。

皮脂や指紋の視認性と付着を低減する表面化学。低表面エネルギー(高い水・油接触角)により実現され、従来は含フッ素化学が用いられました。PFASフリーのルートではシラン構造ハイブリッドネットワークを使用します。

鏡面反射を散乱させて鏡のような眩しさを軽減する表面処理。AGは表面に制御された微細粗さ(ヘイズ)を導入することで機能し、光沢を拡散均一性と引き換えにします。

界面における光反射を抑制し透過率を高めるように設計されたコーティングまたは多層スタック。単層ARは一波長でゼロ反射を達成し、広帯域ARは複数層を用いて広い波長・角度範囲をカバーします。

透明誘電体における通常分散の単純な経験モデル。3つの係数A、B、Cで可視スペクトル全体のn(λ)をフィットします。薄膜設計やエリプソメトリーの予備フィッティングの標準です。

波長における屈折(n)と吸収(k)の両方を捉える完全な複素表現 N = n + ik。フレネルおよびTMM計算で、金属、半導体、吸収性色素を正確に扱うために使用されます。

屈折率の波長依存性 n(λ)。通常分散では波長が長くなるとnが減少します。エリプソメトリーや分光光度計データにフィッティングしたCauchyまたはSellmeier係数で定量化されます。

複素屈折率 N = n + ik の虚部。波長ごとの光吸収を定量化します。誘電体コーティングではk ≈ 0、金属ではkがnより大きいこともあります。

柔らかいプラスチック基板(PMMA、PC)上に塗布される耐傷・耐摩耗コーティング。典型的な性能指標:鉛筆硬度3H〜4H、テーバー摩耗試験やスチールウールサイクル後の低Δヘイズ。

通常~1.65以上の屈折率を持つ光学材料で、AR多層スタックの高n層、AR/VR導波路の基板またはコア、フォトニック構造(メタレンズナノピラー)として使用されます。n=2.00までのPFASフリーHRIは稀で、Kriyaが提供します。

通常~1.40未満の屈折率を持つ光学材料で、AR多層スタックの低n層、導波路のクラッド、反射防止トップ層として使用されます。PFASフリーで低nを実現するのは技術的に困難で、Kriyaは1.16までカバーします。

真空中の光速と媒質中の光速の比。界面における光線の屈折(スネルの法則)とフレネル反射の大きさを決定します。

振動子理論から導出された物理的根拠のある分散モデル。極対係数 Bᵢ と Cᵢ を使用します。Cauchyより広い波長範囲や吸収共鳴近傍で正確です。