Alle producten
KM-205100% PFAS-vrij

100% Solids LRI NIL Resin

Solvent-free 100% solids low-refractive-index UV resin formulated for nanoimprint lithography (NIL) of waveguide cladding and metalens spacer layers. Reproduces sub-100 nm features at R2R scale with low cure shrinkage. PFAS-free; compatible with glass, polymer film, and Si wafer substrates.

Brekingsindex-bereikn = 1.35–1.45
1.162.00
Chemiefamilie100% solids UV-curable
UithardingstypeUV
ProductblokKM-205
Monster aanvragenRI-bereik verkennen

Specificaties

Functies

Low RIAnti-reflective

Compatibele substraten

GlassPETSi wafer

Verwerkingsmethoden

NILR2RSLOT DIESPIN

Brekingsindex-bereik

1.35–1.45
1.162.00
EigenschapWaarde
ProductcodeKM-205
Chemiefamilie100% solids UV-curable
Brekingsindex-bereik1.35–1.45
UithardingstypeUV
PFAS-status100% PFAS-vrij
FunctiesLow RI, Anti-reflective
Compatibele substratenGlass, PET, Si wafer
VerwerkingNIL, R2R, SLOT DIE, SPIN
ProductblokKM-205
BatchgroottesVanaf 40 kg monster tot productieschaal
Houdbaarheid6 maanden (ongeopend)
KwaliteitISO 9001:2015-gecertificeerd. Gefilterd op 0,8 µm. Tot 10 CTQ-parameters per batch.

Gerelateerde toepassingen

AR/VR & WaveguidesBekijk toepassing →Photonics & MetalensesBekijk toepassing →

Monster aanvragen

Beschikbaar vanaf 40 kg monsterpartijen. Elke batch gefilterd op 0,8 μm en getest op maximaal 10 CTQ-parameters.

Neem contact op