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KM-205100%无PFAS
100% Solids LRI NIL Resin
Solvent-free 100% solids low-refractive-index UV resin formulated for nanoimprint lithography (NIL) of waveguide cladding and metalens spacer layers. Reproduces sub-100 nm features at R2R scale with low cure shrinkage. PFAS-free; compatible with glass, polymer film, and Si wafer substrates.
规格
功能
Low RIAnti-reflective
兼容基材
GlassPETSi wafer
加工方法
NILR2RSLOT DIESPIN
折射率范围
1.35–1.45
1.162.00
| 属性 | 值 |
|---|---|
| 产品代码 | KM-205 |
| 化学体系 | 100% solids UV-curable |
| 折射率范围 | 1.35–1.45 |
| 固化类型 | UV |
| PFAS状态 | 100%无PFAS |
| 功能 | Low RI, Anti-reflective |
| 兼容基材 | Glass, PET, Si wafer |
| 加工 | NIL, R2R, SLOT DIE, SPIN |
| 产品系列 | KM-205 |
| 批次规模 | 从40 kg样品到量产规模 |
| 保质期 | 6个月（未开封） |
| 质量 | ISO 9001:2015认证。过滤至0.8 µm。每批次最多10个CTQ参数。 |
申请样品
从40 kg样品批次开始提供。每批次0.8 μm过滤，最多10个CTQ参数测试。