כל המוצרים
KM-205100% ללא PFAS

100% Solids LRI NIL Resin

Solvent-free 100% solids low-refractive-index UV resin formulated for nanoimprint lithography (NIL) of waveguide cladding and metalens spacer layers. Reproduces sub-100 nm features at R2R scale with low cure shrinkage. PFAS-free; compatible with glass, polymer film, and Si wafer substrates.

טווח מקדם שבירהn = 1.35–1.45
1.162.00
משפחת כימיה100% solids UV-curable
סוג ריפויUV
בלוק מוצרKM-205
בקשת דוגמהחקור טווח RI

מפרטים

פונקציות

Low RIAnti-reflective

מצעים תואמים

GlassPETSi wafer

שיטות עיבוד

NILR2RSLOT DIESPIN

טווח מקדם שבירה

1.35–1.45
1.162.00
תכונהערך
קוד מוצרKM-205
משפחת כימיה100% solids UV-curable
טווח מקדם שבירה1.35–1.45
סוג ריפויUV
סטטוס PFAS100% ללא PFAS
פונקציותLow RI, Anti-reflective
מצעים תואמיםGlass, PET, Si wafer
עיבודNIL, R2R, SLOT DIE, SPIN
בלוק מוצרKM-205
גדלי אצווהממדגם 40 kg ועד קנה מידה תעשייתי
חיי מדף6 חודשים (לא פתוח)
איכותמוסמך ISO 9001:2015. סינון ל-0.8 μm. עד 10 פרמטרי CTQ לכל אצווה.

יישומים קשורים

AR/VR & Waveguidesהצג יישום →Photonics & Metalensesהצג יישום →

בקשת דוגמה

זמין מאצוות מדגם של 40 kg. כל אצווה מסוננת ל-0.8 μm ונבדקת עד 10 פרמטרי CTQ.

צרו קשר